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algorithmic modeling for Rhino

Paramétrica D_O_F Enedi 2009

Event Details

Paramétrica D_O_F Enedi 2009

Time: August 24, 2009 to August 28, 2009
Location: Enedi Fau Universidad de Chile
City/Town: Santiago, de Chile
Website or Map: http://www.parametrica.org
Phone: +569 9 5091553
Event Type: generative, design, optimization, digital, fabrication
Organized By: paramétrica.org
Latest Activity: Jul 22, 2009

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Event Description

Paramétrica D_O_F
generative design_optimization_fabrication.
workshop enedi 2009 FAU Universidad de Chile.
24 al 28 de agosto 2009.
Paramétrica Digital Design Research Group.

Paramétrica D_O_F es un workshop de exploración formal y espacial usando algoritmos generativos integrando la optimizacion y fabricación en un mismo proceso. Para este taller se han seleccionado un conjunto de técnicas y estrategias para resolver problemas que hoy se presentan en el diseño y fabricación digital de formas complejas y euclidianas.
Bajo dos entornos de trabajo, entre técnicas interactivas y soluciones algorítmicas, se examinan conceptos y casos de estudio que le permitirán al participante decidir como y en que momento estas tecnologías pueden ser utilizadas como aliadas en los procesos de diseño y fabricación. Tomando como plataforma básica Rhino, se explora y optimiza el diseño y fabricación de topologías complejas bajo los entornos de Grasshopper RhinoNest y RhinoCam.

Paramétrica D_O_F pretende ahondar en el vinculo entre la industria, el mundo académico y la aplicacion profesional, a partir del desarrollo de sistemas de diseño digital y la fabricacion CNC. Para esta ocasión se suma Sabic Polymershapes,posibilitando la incorporación de la variable material dentro del diseño digital, agregando una nueva dimensión a las propuestas del workshop, de manera que estas se piensen, desarrollen y fabriquen en materiales Sabic con la tecnología Router CNC que disponen como empresa. El dia final, Parametrica.org en conjunto a Sabic Polymershapes, Enedi, Eximed y Mcneel LA nombrará un ganador para ser fabricado por Sabic Polymershapes Chile.

Paramétrica D_O_F esta dirigido a profesores y alumnos pertenecientes al area de Diseño Digital de carreras como Arquitectura, Diseño Industrial, e Ingenierías. Tambien se hace extensiva esta invitación a Arquitectos, Diseñadores Industriales, e Ingenieros pertenecientes al sector publico y privado. Las vacantes para aplicar a este workshop son 40.

Inscripciones:

http://workshop.parametrica.org/

Sponsor:

Sabic Polymershapes Chile

Instructores:

Rodrigo Culagovski www.culagovski.net

Guillermo Parada www.gt2P.cl

Diego Pinochet escripto.wordpress.com

Mario Vergara sistemasderepresentacion2.wordpress.com

Andres Gonzalez www.rhino3d.com

Colaboran

Jackie Nasser www.rhino3d.com

Rafael De Molino www.tdmsolutions.com

René Medel www.rhino3d.cl

NelsonEbensperger www.revistambientes.cl

Contacto e información:

data@parametrica.org

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